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口腔正畸支抗的量級

作者:許天民 教授 來源: 口腔視界 日期:2017-07-28
導讀

正畸醫師習以為常的治療前推斷強弱支抗的方法與其治療後用麵型改善來判斷是否達到了強支抗的控製效果不是同一個概念,應該說治療後麵型改善的因素要遠遠多於正畸醫師所關注的支抗控製效果,前者涵蓋的範疇遠大於後者。

關鍵字: 口腔正畸

口腔正畸支抗的量級

國內外教科書均按照支抗磨牙前移量占拔牙間隙的比例將支抗分為3種:最大支抗、中度支抗和弱支抗,其中最大支抗被定義為支抗磨牙前移量占拔牙間隙的1/3[2]或1/4[3]以內。雖然定義很明確,但使用起來並不容易。正畸醫師區分強弱支抗的需求通常在正畸治療之前,屬於治療計劃的一部分,但該定義似乎更適合於治療完成後的療效評價。於是正畸醫師將此定義理解為如果某病例的治療計劃不希望磨牙前移量超過拔牙間隙的1/3或1/4(平均約2.2mm),該病例即為需要最大支抗控製的病例,至於治療後是不是達到了正畸醫師的期望值,卻鮮有正畸醫師去測量。原因很簡單,因為治療後正畸醫師有了更簡單、更直觀的評價方法——患者唇部的側貌突度變化。隻要嘴唇的側貌突度減小了,就可以認為該患者的治療達到了最大支抗的控製要求。但如果統一治療前後的標準,正畸醫師期望獲得最大支抗控製的病例在治療後磨牙前移量有多少可以控製在2.2mm之內?

筆者[4]曾對63例需要最大支抗的錯合病例做過一個前瞻性隨機臨床實驗,63例患者均使用口外弓支抗,均以MBT直絲弓矯治器進行治療;評價方法為在矯治前後的頭顱側位片上,以上齶骨結構進行最佳匹配方法重疊,由2人定點取均值進行測量,所有測量在美國太平洋大學牙科學院正畸科的計算機頭影測量係統上完成。結果發現:上頜磨牙的平均前移量為(4.3±2.1) mm,超過了拔除1個前磨牙平均寬度的1/2!這顯然沒有達到正畸醫師所期望的最大支抗的控製效果。那麼能否據此推測這些患者的麵型會令正畸醫師大失所望呢?事實證明答案是否定的。以下圖的樣本病例為例,該患者的磨牙前移量幾乎達到了1顆磨牙的寬度,但由於患者的生長明顯,其軟組織麵型仍然有顯著改觀。由此可見,正畸醫師習以為常的治療前推斷強弱支抗的方法與其治療後用麵型改善來判斷是否達到了強支抗的控製效果不是同一個概念,應該說治療後麵型改善的因素要遠遠多於正畸醫師所關注的支抗控製效果,前者涵蓋的範疇遠大於後者。

因此,臨床醫師用麵型改善效果來評價支抗控製的效果是不可取的,培養成這種習慣性思維的危害是:隻要患者的麵型改善了,正畸醫師就會認為自己的支抗控製方法成功了,而其真正的原因卻可能是如下圖中顯示的,患者頜骨的生長掩蓋了實際發生的支抗丟失量。如果正畸醫師不了解這一點,就會被自己看見的表象所蒙蔽,總認為真的將磨牙前移量控製在了1/3甚至1/4拔牙間隙之內。如果真的想知道磨牙支抗到底喪失了多少,就應該測量磨牙實際的移動,而不是通過評價患者治療前後的麵型改變來間接推測支抗控製效果。為什麼正畸醫生會忽略這麼明顯的概念置換?除了治療前後評價支抗的目的發生了改變之外,還有兩個重要原因:一是大多數臨床醫師隻關注如何用頭影測量做診斷設計,相當多正畸醫師甚至不去拍攝治療後的頭顱側位片;二是即使拍攝了治療後的頭顱側位片,相當多的正畸醫師也不知道該如何測量支抗磨牙究竟發生了什麼樣的位移。

下圖顯示1例生長期患者治療前後的磨牙移動情況

A:患者治療前頭顱側位片描記圖;

B:患者治療後頭顱側位片,顯示上唇突度減小、II類麵型減輕;

C:患者生長期治療前後在前顱底平麵重疊,顯示有明顯的上下頜骨生長;

D:用上頜結構最佳匹配法進行重疊,顯示該患者的磨牙支抗有明顯喪失。

參考文獻:

2.Thomas M. Graber , Orthodontics-current principles and technique, 1995; 605.

3.Gurkeerat Singh, Textbook of Orthodontics, 2004; 264

4. TM Xu, XY Zhang, S Baumrind. Randomized clinical trial comparing control of maxillary anchorage with 2 retraction techniques. AJODO, 2010; 138

摘自:許天民教授文章

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